等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質的一種狀態,也叫做物質的第四態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的"活性"組分包括:離子、電子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子體表面處理儀就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面,從而實現清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
清洗原理:
等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四種狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。
在真空腔體里,通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產生高能量的無序的等離子體,通過等離子體轟擊被清洗產品表面.以達到清洗目的。
優勢:
一、清洗對象經等離子清洗之后是干燥的,不需要再經干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率;
二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;
三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環保的綠色清洗方法。這在全球高度關注環保的情況下越發顯出它的重要性;
四、采用無線電波范圍的高頻產生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部完成清洗任務,因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;
五、使用等離子清洗,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內即可完成,因此具有產率高的特點。
真空等離子清洗機用途:
·適用6寸以下樣品的處理
·用于硅片、玻璃、塑膠材料表面的處理
·配置自動/手動模式,實現控制高機能
·桌上型,省空間
·適合于研究院、高校、研發中心使用
特點:
表面清洗活化
表面蝕刻
可以更靈活地操作,簡便地改變處理氣體的種類和處理程序;不會對操作人員的身體造成任何傷害;其成本對于等離子處理方法來說是微不足道的。